超聲波細胞粉碎儀廣泛應用于我們的生活中,但我們不知道如何保養。我們應該知道,任何儀器在使用后不清洗都是影響其使用壽命的重要因素,所以今天我將告訴你一些常見的超聲波細胞粉碎儀的清洗方法。讓我們來看看。
1、溶劑清洗
與傳統方法相比,其優點是清洗速度快,效率高,溶劑本身可以不斷蒸餾回收;但缺點也很明顯,由于光學玻璃生產環境需要恒溫恒濕,是封閉車間,溶劑氣味對工作環境有一定影響,特別是使用不封閉的半自動清洗設備。
2、鍍膜前清洗
涂層前清洗的主要污染物是芯油(也稱磨邊油、芯也稱芯、芯,是指獲得規定半徑和芯精度的工藝)、指紋、灰塵等。
清洗劑的選擇非常重要,因為涂層工藝對鏡片的清潔度要求非常嚴格。在考慮清洗劑的清洗能力的同時,也要考慮其腐蝕性。
涂裝前的清洗方法一般與研磨后的清洗方法相同,分為溶劑清洗和半水基清洗。前面提到的工藝流程和化學藥劑的類型。
3、鍍膜后清洗
一般包括油墨前清洗、接縫前清洗和組裝前清洗,其中接縫前清洗(接縫是指用光敏膠將兩個透鏡粘接成規定形狀,以滿足不能一次加工成型的需要,或創造更特殊的曲率和透光率的過程)。
接合前需要清洗的污染物主要是灰塵、指紋等混合物。清潔并不困難,但對透鏡表面的清潔度要求很高,清潔方法與前兩種清潔方法相同。
4、半水基清洗
近年來,在傳統溶劑清洗的基礎上,逐漸發展成熟的新工藝。有效避免避免了溶劑的一些弱點,可以無毒,氣味輕微,廢液可以排入污水處理系統;設備上的配套設備較少;使用壽命比溶劑長;運行成本低于溶劑。
半水基清洗劑的一個突出優點是對磨粉等無機污染物有良好的清洗效果,大大降低了后續單位水基清洗劑的清洗壓力,延長了水基清洗劑的使用壽命,減少了水基清洗劑的用量,降低了運行成本。其缺點是清洗速度比溶劑慢,必須漂洗。
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